荷兰计划发布新的出口管制措施 限制 ASML 半导体制造设备出口

　　据彭博社报道，荷兰政府计划最快下周发布新的出口管制措施，将限制 ASML 的半导体制造设备出口。

　　报道称，此次出口管制名单新增了 TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i 及 NXT:2100i 等深紫外光(DUV)浸入式光刻设备。IT之家注意到，这一系列设备最高可支持 5 nm 工艺，如台积电就使用 SAQP 和氩氟浸没 (ArFi) 光刻实现了 7 nm 量产。此前，ASML 最先进的极紫外光(EUV)光刻机已在出口管制列表当中。

　　彭博社援引知情人士消息称，这一出口管制新规最早将在 6 月 30 日或 7 月第一周公布，有可能成为被其他欧盟成员国效仿的对象，荷兰政府发言人对此不予置评。

　　报道指出，这是荷兰和日本今年 1 月原则上同意加入美国限制对中国大陆出口先进半导体制造设备的行动以来的最新举措，荷兰贸易部长 Schreinemacher 称，荷兰以国家和国际安全考量，有必要尽快限制先进半导体技术出口。

　　ASML 执行副总裁兼商务总监 Christophe Fouquet 声称，几乎不可能建立全自主的芯片产业链，这样做的代价是极为高昂和困难的，日本光刻机制造商佳能和尼康便是前车之鉴。
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